- 杂志
 论坛 » 工业控制 » RE: 为提高IC制造良品率重新定义IC设计(ZT)
 RE: 为提高IC制造良品率重新定义IC设计(ZT)  发表于 2008-06-20 13:17:14
呢称:beibeidong
加我为好友

本文结论

 

上述例子仅仅是新思公司为改进良品率所提出的众多技术解决方案中的几个范例。坚持采用以设计为导向的方法进行生产,许多困扰半导体工业的良品率和制造问题甚至可以在它们发生前就能解决。

 

如果一开始就采用这些方法,设计团队不仅可以为目前项目的成功做好准备,还能为未来的设计打下坚实基础。展望90nm和65nm工艺节点,这些以设计为导向的方法只会变得更加重要。更窄的线宽和更密的间距会产生一系列机械应力、信号完整性、光掩模和蚀刻挑战,要想克服这些挑战就必须采用高度智能化的设计。

 

幸运的是,业界已经在为这些极具挑战性的工艺节点做准备。机会与变化相伴而来,而正在进行的创新性工作就是要充分利用这些机会。


关于我们 | 广告服务 | 企业会员服务 | 新手上路 | 联系我们 | 友情链接
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
Copyright ©2002 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
京ICP备060382号